此外，實(shí)用新型專利證書和外觀設(shè)計(jì)專利證書也有相同變化。
（新版實(shí)用新型專利證書和現(xiàn)版實(shí)用新型專利證書）
（新版外觀設(shè)計(jì)專利證書和現(xiàn)版外觀設(shè)計(jì)專利證書）
新版專利證書的變化主要在兩點(diǎn)：
1. 專利權(quán)人、發(fā)明人、申請(qǐng)日、授權(quán)公告日等主要著錄事項(xiàng)的布局發(fā)生大幅變化。
從第一版專利證書頒發(fā)起，過去39年間，我國專利證書都是在發(fā)明名稱下面，先體現(xiàn)發(fā)明人信息，再體現(xiàn)專利權(quán)人信息。
但今后要反過來了，將會(huì)先體現(xiàn)專利權(quán)人信息，再體現(xiàn)發(fā)明人信息，最后才是申請(qǐng)日、授權(quán)公告日等信息。
2.專利申請(qǐng)日時(shí)申請(qǐng)人、發(fā)明人信息，從證書背面來到證書正面。
在2018年，當(dāng)“申請(qǐng)日時(shí)申請(qǐng)人、發(fā)明人”的信息首次出現(xiàn)在專利證書上時(shí)，我們可以推測，這一變化在一定程度上是為了遏制“授權(quán)未下證專利”的買賣行為。
